電子機械
プリント基板用露光装置 光 シリーズ
内層板用両面同時露光装置 光HDE110S
高生産性を特長とした高速・高解像度の露光装置です。
特長｜仕様｜寸法図 |
| 特長 |
| ■高生産性・高精度対応の実現 | ||||||||
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特長｜仕様｜寸法図 |
| 仕様 |
| 露光光源 | UV光源 | 拡散光 |
| ランプ | 10ｋW メタルハライドランプ | |
| 照度分布 | 85％以上 | |
| ランプ数 | 2本 | |
| 基板サイズ | 適応基板サイズ | 225×305～610mm×760mm |
| 板厚 | 0.04mm ～ 2.5mm | |
| 位置合わせ | マーク認識方式 | 新画像処理方式（エッジ抽出方式） |
| 露光位置合わせ精度 | ±10μm以下 | |
| タクトタイム | 約9秒＋露光時間 | |
| 機台寸法 | 3000(W)×1500(D)×2260(H)mm |
特長｜仕様｜寸法図 |
| 寸法図 |
| ＊上記の仕様・寸法等は改良の為予告なく変更することがあります。 |
